Přeskočit na hlavní obsah
Přeskočit hlavičku

Laboratoře pro přípravu nanostruktur využívají optického laserového litografu a systému pro depozici tenkých vrstev. Optický litograf umožňuje přímý zápis navrhované struktury s rozlišením až 300 nm na pixel a celkovou velikostí zapisovaného motivu až 10x10 cm. Po zápisu, je fotorezist vyvolán a může být pokryt tenkou vrstvičkou (v řádech jednotek či desítek nanometrů) v reaktoru depozice tenkých vrstev. Tento systém umožňuje naprašovaní tenkých kovových a dielektrických vrstev. Pro speciální aplikace a materiály je možné připravit tenké vrstvy kovů termální evaporací. Velikou předností naší depozice tenkých vrstev je možnost depozice až čtyř různých materiálů během jednoho procesu a to i s využitím depozice v reaktivní, kyslíkové, atmosféře. Depoziční aparaturu je možné osadit spektroskopickým elipsometrem a monitorovat a kontrolovat tak růstové procesy v reálném čase.