Přeskočit na hlavní obsah
Přeskočit hlavičku

Přístrojové vybavení

Skenovací transmisní elektronový mikroskop

Skenovací elektronový mikroskop umožňuje při využití požadované detekce (pomocí sekundárních elektronů, zpětně odražených elektronů nebo pomocí skenovací transmisní elektronové mikroskopie) snímat a generovat informace z povrchů vodivých a nevodivých materiálů včetně chemické analýzy pomocí energiově disperzního spektrometru. Kombinací skenovacího elektronového mikroskopu a mikroskopie etomových sil s využitím unikátní zobrazovací techniky “Correlative Probe and Electron Microscopy“ systém umožňuje simultánně charakterizovat povrchy zkoumaných vzorků a získat tak informace o jejich topografii.

Nanospider

Nanospider je moderní technologické zařízení pro tvorbu kvalitního nanovlákenného materiálu. Nanovrstvy a nanovlákna jsou připravovány metodou elektrostatického zvlákňování hladiny roztoku polymeru nebo taveniny. Pro tvorbu vláken se používá rotující válec, který je z části ponořen do roztoku polymeru. Válec se otáčí kolem své osy a zároveň se na jeho povrchu vytváří tenká vrstvička roztoku polymeru. V horní části rotačního pohybu válce, místa s nejmenší vzdáleností od kolektoru, se díky maximální intenzitě elektrického pole utvoří četná ohniska Taylorových kuželů, která následně vedou k procesu zvlákňování na horní části válce. Síť vláken po dopadu na kolektor nebo nosnou fólii po odpaření rozpouštědel ztuhne a vytváří pevné struktury.

Litografie a depozice tenkých vrstev

Optický litograf umožňuje přímý zápis navrhované struktury s rozlišením až 300 nm a celkovou velikostí zapisovaného motivu až 10x10 cm. Po zápisu, je fotorezist vyvolán a může být pokryt tenkou vrstvičkou (v řádech jednotek či desítek nanometrů) v reaktoru depozice tenkých vrstev. Tento systém umožňuje naprašovaní tenkých kovových a dielektrických vrstev. Pro speciální aplikace a materiály je možné připravit tenké vrstvy kovů termální evaporací. Předností je možnost depozice až 4 různých materiálů během jednoho procesu, a to i s využitím depozice v reaktivní, atmosféře (kyslík, dusík). Depoziční aparaturu je možné osadit spektroskopickým elipsometrem a monitorovat a kontrolovat tak růstové procesy v reálném čase.